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UP10M工業(yè)用超高純氣體純化器
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最后更新:2019-05-14
關(guān) 注 度:3490
生產(chǎn)企業(yè):北京億誠恒達科技有限公司
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產(chǎn)品詳細介紹超高純氣體純化技術(shù)是有色金屬研究總院“十三五”重點產(chǎn)業(yè)化方向。在“十二五”期間軍工項目科研成果基礎上研發(fā)的氣體純化材料,具有處理量大、去除雜質(zhì)種類多、吸附深度大、使用壽命長等優(yōu)點,并以此為核心技術(shù)開發(fā)出多個型號的惰性氣體、氫氣和氮氣等超高純氣體純化裝置。同時,有研總院自身具備不斷創(chuàng)新的研發(fā)能力,成套的純化材料生產(chǎn)、純化器組裝技術(shù),以及完善的純化器性能測試條件,可根據(jù)用戶需求設計完整解決方案、定制非標產(chǎn)品,并提供各項性能檢測服務,目前產(chǎn)品已應用于中國科學院理化所、中國核工業(yè)集團、西南化工研究設計院、北京師范大學、北京航空航天大學、北京科技大學、國家有色金屬材料檢測中心,哈爾濱師范大學等單位獲得應用。

UP10M工業(yè)用超高純氣體純化器采用活性金屬為化學吸附劑,當原料氣通過活性金屬純化床時,氣體中O 2,H2O,N2,CO,CO2,CH4等雜質(zhì)氣體與活性金屬發(fā)生化學吸附反應,根據(jù)原料氣純度不同,一次純化后出口氣體純度即達到 7N-8N,可實現(xiàn)無人值守全自動運行,并具有實時監(jiān)測、故障報警和反饋等功能。為保證產(chǎn)品質(zhì)量,純化器系統(tǒng)管路連接全部采用 Swagelok 全自動軌道焊機焊接,漏率低于 10-9 Pa;關(guān)鍵部件焊接、組裝、生產(chǎn)均在千級超凈環(huán)境中進射流沖蝕試驗機便于在各種條件下測定的磨損率。磨損率可 以用來確定在給定操作條件的最佳材料。它也可以被用來預測使用壽命和壽命周期成本。

UP系列氣體純化器

1.jpg

委托上海正帆科技公司對 GRINM-UP1L 氬氣純化器性能檢測結(jié)果

 

氣體類型

H2

O2/Ar

N2

CH4

CO

CO2

H2O

單位

原料氣

0.074

<0.01

0.248

<0.01

<0.01

<0.01

未測試

ppm

純化后

<0.01

<0.01

<0.01

<0.01

<0.01

<0.01

<0.033

ppm

 

部分用于現(xiàn)場照片:

2.jpg


山西中升鋼廠光譜儀配套UP10M使用現(xiàn)場,分析用氣體純度達到光譜儀檢測所需的最高級的綠色。

3.jpg

          北京科技大學CVD設備用的多臺UP1L氬氣純化器

  4.jpg



西南化工研究院定制 20MPa/30Nm3 氬氣純化器

5.jpg




           搭載氫氣純化的電解水制氫/在線純化系統(tǒng),用于人造鉆石生產(chǎn)高純氫場合

 



1.jpg


UP10M工業(yè)用超高純氣體純化器產(chǎn)品參數(shù):

l  原料氣純度要求:≥99.999%,He/Ar/H2 /N2

l  產(chǎn)品氣純度:≥99.99999%

l  產(chǎn)品氣雜質(zhì)含量:

H2O ≤5ppb

O2 ≤10ppb

N2 ≤10ppb(原料氣非 N2 )

H2 ≤10ppb(原料氣非 H2 )

CO ≤10ppb

CO2 ≤10ppb

CH4 ≤10ppb

NMHC ≤10ppb

l  最大工作流量:≤10Nm3 /h,可定制2-30Nm3 /h

l  閥門:EP 級氣動隔膜閥

l  內(nèi)置顆粒過濾器:2 微米

l  顯示屏:組態(tài)控制軟件,觸摸屏工業(yè)計算機控制

l  最大工作壓力:2.0MPa,氬氣可定制20兆帕高壓

l  出入口氣體壓差:0.2MPa

l  進出氣接口:1/4″VCR

l  純化柱及管路:EP級316不銹鋼

l  管路連接:Swagelok 自動軌道焊接

l  電源電壓及功率:220V-380V,10-20kw

l  產(chǎn)品外形尺寸:500×700×1600mm

 

氣體純化器是集成電路、LED、太陽能板、光纖、燃料電池等制造工藝中必不可少的重要裝備,并可有效提高離子濺射、薄膜生長、焊接、配氣等多項技術(shù)的工藝性能。UP10M 工業(yè)用超高純氣體純化器系列主要用于提供工業(yè)生產(chǎn)、分析測試中的超高純度工藝氣、保護氣等,也是氣體配制行業(yè)必不可少的關(guān)鍵設備之一。


氣體種類

產(chǎn)品用途

應用領域

He

稀釋氣純化

半導體制造業(yè)中光刻、干刻、化學氣相沉積工藝中混合氣

Ar

等離子體氣體、載氣純化

半導體制造業(yè)中干刻蝕、離子注入等 工藝中等離子體氣體,直讀光譜儀載氣

N2

稀釋氣、檢漏氣純化

半導體制造業(yè)中稀釋氧化工藝、氣體濃度調(diào)節(jié)、檢漏氣體

H2

還原氣、反應氣純化

IC、LED 等制造業(yè)中外延工藝和擴散工藝氣體
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