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    抬起模式：該工作模式分兩個階段,第一階段與普通原子力顯微鏡形貌成像一樣，在探針與樣品間距1nm以內(nèi)成像，然后，將探針抬起并一直保持相同距離，進行第二次掃描，該掃描過程可以對一些相對微弱但作用程較長的作用力進行檢測，如磁力或靜電力。
 
    磁力顯微鏡（Magnetic Force Microscope -- MFM）：控制磁性探針在磁性樣品表面進行逐行掃描,利用抬起模式進行二次成像，獲得樣品納米尺度局域上磁疇結構及分布圖。
    靜電力顯微鏡（Electrostatic Force Microscope -- EFM）：控制導電探針在樣品表面進行逐行掃描，利用抬起模式二次成像，獲得樣品納米尺度局域上靜電場分布圖。